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Filtre multispectral photolithographique

Le filtre multispectral photolithographique est fabriqué avec précision à l'aide d'un procédé combiné de photolithographie et de revêtement, avec plusieurs canaux spectraux intégrés à différents emplacements spatiaux sur un même substrat. Chaque canal présente une précision exceptionnelle en matière d'alignement spatial tout en conservant d'excellentes caractéristiques spectrales.

Catégorie :

Miroir

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Courriel :

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Performance du produit

Type	Filtre multispectral photolithographique
Longueur d'onde centrale	450-850nm
Largeur de bande à demi-puissance	50-400nm
Transmittance maximale	≥92 % (personnalisable sur demande)
Dimensions du produit	20–81 mm (personnalisable sur demande)
Longueur d'onde de coupure	300-1100nm
Limite de profondeur	≥OD3
Précision de la dimension graphique	±5 μm
Zone du masque noir	R < 3 %
Matériau du produit	Saphir de qualité optique
Finition de surface	10-5

Longueur d'onde centrale (nm)	Largeur de bande à demi-puissance (nm)	Rugosité (nm)	Limite de profondeur	Transmittance moyenne (%)
475 ± 10	90 ± 20	15	OD≥3 @ 300–1100 nm	T≥92
560 ± 10	80 ± 20	15	OD≥3 @ 300–1100 nm	T≥92
625 ± 10	350 ± 20	20	OD≥3 @ 300–1100 nm	T≥92
660 ± 10	60 ± 20	15	OD≥3 @ 300–1100 nm	T≥92
830 ± 10	120 ± 20	25	OD≥3 @ 300–1100 nm	T≥92

Courbe spectrale

Domaines d'application

1. Télédétection spatiale
2. Spectromètre d'imagerie
3. Imagerie médicale multispectrale

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光刻式多光谱滤光片.pdf

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